第248章 “光刻厂”项目！(3/5)

，只能换其他高校和研究所。

    “我了解到，夏科院那边光刻机研究有不小的进展……”

    “其实我有想过光刻机的研究难点，那种高精度的东西确实很难……为什么我们不放大呢？”

    “阿斯麦的光刻机一体化，我们能不能将光刻机放大，造一个光刻厂？”

    “我记得夏科院有同步辐射光源技术已经有很大的研究成果！”

    “清大那边的赵教授，在2010年，提出了SSMB稳态微聚束的设想。”

    “我想联合夏科院和清大，做这方面的研究……”

    光刻厂！

    未来被提出的研究方向。

    是对光刻机的一种碾压。

    只不过，在李易重生的时候，还没有真正落地，但可以肯定这个也是一种解决光刻机的办法！

    而且是行得通的！

    理论上来说，通过同步辐射技术，对于大量接近光速的高能电子来说，只要不断改变它的方向，它就会不断释放出光子。

    随着速度衰减到足够低。理论上可以得到，从X光到远红外范围内的具有连续光谱、高强度、高度准直、高度极化、特性可精确控制的优异脉冲光源。

    最高可以达到飞秒激光级。

    自然包括EUV光源！

    比较难的是，如何聚束，还是：稳态聚束。

    电子在转弯，会纵向滑移，聚束就没法维持了。

    激光和电子微聚束要以巧妙的角度调制。

    怎么保持好角度也很困难。

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    目前，高能所的第四代同步辐射光源，还没获突破性进展。

    想通过复杂的插入件技术，让光源质量进一步提升，有了更精尖的运用场景。

    虽然还达不到用来制作光刻机，也就是在极紫外光源段，质量不够、不够细腻和稳定。

    赵教授提出的SSM