第304章 突破性进展第四代同步辐射装置！(1/4)

    “目前，第四代同步辐射光源技术，已经有突破性进展了。”

    “我们已经向科技部门提交了相关技术验证。”

    “最迟……今年下半年，可能就需要投建第四代同步辐射装置，进一步验证SRF-FEL-EUV光刻厂项目。”

    “……”

    在同步辐射研究所。

    李易了解到整个项目的核心：第四代同步辐射光源已经有突破性进展。

    如此一来，想要真正研究和利用，要使用EUV光源制造7nm制程以下的芯片。

    就需要第四代同步辐射装置。

    “建！”

    “资金方面不用担心，今年研发投入中，不包含第四代同步辐射装置建设费用。”

    “硬件设备的建设费用我另外出。”

    “不过，我希望同步辐射装置，能不能建设在沅江市？”

    李易提出了自己的一个要求。

    当初他也跟夏科院这边说过，投建同步辐射装置，可以放在自己家乡。

    钱不是问题！

    其次，这个第四代同步辐射装置，带来的不仅仅是一个设备。

    更是几十上百个世界顶尖实验室。

    SRF-FEL-EUV光刻厂的核心，也是同步辐射装置。

    李易去年5月回家，就跟家乡领导说过。

    手里有正在投资研发保密项目的技术。

    等到技术取得突破，会回家建厂。

    依托SRF-FEL-EUV光刻厂的技术，建设晶圆厂。

    SRF-FEL-EUV光刻厂，它只是芯片生产环节中的一环。

    整个芯片生产环节有多个步骤。

    依旧需要一个庞大的晶圆厂配套。

    如果再加上同步辐射装置，需要1000多亩的土地储备。

    仅仅同步辐射装置建设用地，就要900多亩。